Forgot PASSWORD忘記密碼

banner

X光光電子能譜儀 (XPS)

簡稱 XPS
機台編號 033
中文名稱 X光光電子能譜儀 (XPS)
英文名稱 X-ray Photoelectron Spectroscopy
功能說明 1.鋁單光X光源系統:X射線束最小直徑 ≦ 10 µm 2.能量解析度:0.5 eV (Ag3d5/2) 3.試片定位:SXI成像, Ø 10 µm ~ 1400 µm×1400 µm 4.試片大小: 10mm*10mm*5mm 5.雙射束源電荷補償系統:PET中O=C-O C1s半高寬< 0.85 eV 6.Zalar rotation depth profiling (迴旋式縱深分析) 7.UPS: Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy (紫外光電子能譜) 8.LEIPS: Low Energy Inverse Photoelectron Spectroscopy(低能量反光電子能譜) 9.Argon Ion Gun,可作清潔 sample 的表面和 depth profile 分析。 10.Ar Gas Cluster Ion Gun(GCIB),可作有機物 depth profile 分析。
儀器服務項目 1. 表面成份分析(Surface Survey) 2. 表面化學組態分析 (Narrow Scan) 3. 多層薄膜縱深分析 (Depth Profile) : 藉由Ar or GCIB離子濺蝕樣品的表面,得到不同深度的元素訊號之縱深分布。 4. 圖譜分析(Mapping) : 分析樣品區域元素訊號,得到區域元素分布影像圖。 5. 線掃描(Line Scan): 分析樣品直線上的元素
儀器購置日期 2022-07-01 00:00:00
儀器購置金額 0
儀器廠牌 ULVAC PHI
型號 Versa Probe 4
儀器規格 Al 單光化X光光源
主要配件,配件 1. SXI image 2. Ar Ion Gun 3. GCIB Ion Gun 4. UPS 5. LEIPS
儀器放置位置 理學大樓 理112室
注意事項 1.未曾於本中心室進行實驗之人員,請先電話聯繫,確定樣品處理方式。 2.樣品送測前,請確定樣品已乾燥完成。 3.如為高分子材料、磁性材料或粉體試片,請預先告知作為判定樣品處理方式之說明。 4.本儀器設備不接受揮發性材料。 5.樣品最大請勿超過50mm×50mm×15mm。